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电镀AF定制 电镀AF 东莞仁睿电子科技

发布日期 :2023-04-22 11:13发布IP:123.58.44.124编号:11751432
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绝缘材料
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不影响产量的简化选择方案与PVD不同,电镀AF加工,ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。








利用斯涅尔定律,可以找到由不同折射率的平面平行表面组成的多层薄膜镀膜任何位置的光线角度。由于斯涅尔定律适用于每个界面,因此薄膜内光线的内角与薄膜顺序或薄膜在堆栈中的位置无关(2)n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4n1sin?θ1=n2sin?θ2=n3sin?θ3=n4sin?θ4出射光线将与入射光线平行,电镀AF供应,因为 n1 = n4。由于光学元件的曲率,曲面上的光学镀膜并不是真正的平面平行结构。不过,由于镀膜较薄,这种近似仍然有效。


薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发,或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量,传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。如果蒸发沉积的原子在基底表面的迁移率低,则薄膜会含有微孔。当薄膜暴露于潮湿的空气时,电镀AF,这些微孔逐渐被水汽所填充。因而,折射率是蒸发材料在真空中的折射率,而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。


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