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精密光学镀膜 精密光学镀膜 仁睿电子科技

发布日期 :2023-04-16 10:44发布IP:123.58.44.124编号:11697407
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绝缘材料
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稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求,精密光学镀膜工艺,典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同,精密光学镀膜,ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面,都是理想的镀膜解决方案。 ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。将等离子体增强原子层沉积(PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。








可以应用于塑料制成的基底。图19.11展示一个操作者正在光学镀膜机前。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、IAD沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。光学涂层可以直接应用于光学元件的表面、以调整其反射率等。除此外可以利用材料的特性与多个膜层的配合作用可以达到很多特殊效果。


不影响产量的简化选择方案与PVD不同,ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。


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