离子镀 蒸发物资的份子被电子碰撞电离后以离子堆积在固体外面，称为离子镀。这类技巧是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技巧的联合。一种离子镀体系如图4[离子镀体系示意图]，将基片台作为阴极，外壳作阳极，彩色镀膜，充入惰性气体（如）以发生辉光放电。从蒸发祥蒸发的份子经由过程等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加快打到基片外面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也堆积在基片或真空室壁外面。
在离子束溅射 (IBS) 过程中，利用高能电场加速离子束（图 5）。这一加速度会给离子提供显著的动能 (~10-100 eV)。当源材料受到冲击时，源材料离子从目标“溅射”，并在与光学表面接触后形成致密膜。以其精度和可重复性著称，是激光光学镀膜的镀膜沉积技术。IBS的缺点是，成本比其他技术更高，因为在光元件中产生了更长的周期时间和应力，这可能导致变形和光学畸变。
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