在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。等离子溅射包括一系列已知技术，包括先进等离子溅射和磁控溅射。一般概念来源于等离子体的产生。等离子体中的离子随后加速进入源材料，撞击出松散的高能源离子，然后溅射到目标光学元件上。
常见镀膜种类包含增透膜，宽带增透膜，介质高反膜，金属反射膜，真空光学镀膜加工，金属加强膜，真空光学镀膜价位，金属导电膜，透明导电膜，前截止膜，真空光学镀膜批发商，后截止膜，偏振膜，惠州真空光学镀膜，增透 防水膜，高反 防水膜等等。根据产品需求可进行膜层选择。常见选用的镀膜材料一般是氟化镁、二氧化硅、氧化锆等其透光度约为85%左右。若加上一层镀膜（折射率1.5），则透光度可达91%。可见光学镀膜的重要性。
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