稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求,典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同,ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面,都是理想的镀膜解决方案。 ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。将等离子体增强原子层沉积(PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。
金属(合金)类:锗、铬、铝、银、金等.
①锗
稀有金属,无毒无性,主要用于半导体工业塑料工业,广东精密表面镀膜,红外光学器件,精密表面镀膜加工厂,航天工业,光纤通讯等.透光范围2000NM--- 14000NM,n=4甚至更大.
铬
有时用在分光镜上并且通常用作"胶质层"来增强附着力,胶质层可能在550NM的范围内,但在铝镜膜导下面,30NM是增强附着力的有效值.
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