溅射镀膜
用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[
二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶，牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，真空光学镀膜批发，距靶几厘米。体系抽至高真空后充入
10～1帕的气体（平日为气），在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。
薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。如果蒸发沉积的原子在基底表面的迁移率低，真空光学镀膜，则薄膜会含有微孔。当薄膜暴露于潮湿的空气时，真空光学镀膜价格，这些微孔逐渐被水汽所填充。因而，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。
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