薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。如果蒸发沉积的原子在基底表面的迁移率低，则薄膜会含有微孔。当薄膜暴露于潮湿的空气时，这些微孔逐渐被水汽所填充。因而，电饭煲渐变加工哪家好，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。
不影响产量的简化选择方案与PVD不同，ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。
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