真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其道理是在高度真空条件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金属铝片受热蒸发并附于(塑料)工件外面﹐构成一层金属膜的办法﹒***真空电镀的特色:1gt;真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一样平常為0.01~0.1um),精密光学电镀加工厂,可以或许严厉出啤件外面的外形﹒2gt;事情电压不是很高(200V)﹐操纵便利﹐但装备较低廉﹒3gt;蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生產效力较低﹒4gt;
光学镀膜的设计是为了提高光学组件在特定入射和偏振角度(如 s 偏振,p 偏振或随机偏振)下的性能。如果镀膜的入射角度或偏振角度与设计时不同,将导致性能显著下降。足够大的入射角和偏振偏差可能导致镀膜功能完全丧失。光学镀膜理论要理解光学镀膜,就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化,它受斯涅尔折射定律决定
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