真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其道理是在高度真空条件下（1.3×10-2~1.3×10-1Pa）使金属铝片受热蒸发并附于（塑料）工件外面﹐构成一层金属膜的办法﹒***真空电镀的特色:1gt;真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一样平常為0.01~0.1um)，可以或许严厉出啤件外面的外形﹒2gt;事情电压不是很高（200V）﹐操纵便利﹐但装备较低廉﹒3gt;蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生產效力较低﹒4gt;
溅射镀膜
用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，电镀加工，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[
二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶，电镀加工厂商，牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶几厘米。体系抽至高真空后充入
10～1帕的气体（平日为气），在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。
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